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              • VGB-P系列手套箱專用等離子清洗機

                1. 生產廠家:CIF
                2. 產品型號:VGB-P/CPC-Plus

                CIF推出VGB-P系列手套箱專用等離子清洗設備,優化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡單方便,性能穩定,實用性強,容易維護。...

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              • 全自動濕法處理系統

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:CHEMIXX 1201

                CHEMIXX 1201是全自動濕法處理系統,配置cassette to cassette 或foup,,支持12寸及以下尺寸晶圓或9 x 9 英寸方片的濕法處理,包括蝕刻、清潔或顯影工藝。該系統可配...

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              • 大尺寸濕法處理系統

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:CHEMIXX 760

                CHEMIXX 760系統是一款大尺寸濕法系統,支持最大樣品達535X535mm(21寸方片),更大的樣品尺寸可定制,一臺系統可實現清洗、蝕刻 、顯影 ,干燥整個工藝過程。...

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              • 濕法刻蝕專用系統

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:CHEMIXX E 30Pm

                CHEMIXX E 30 濕法刻蝕系統專門用于掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。...

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              • CMP后雙面清洗機

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:CHEMIXX CMP 30pm

                CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙面清洗設計的系統,獨立系統,占地面積小,非常適合有限的空間。具有4路化學液清洗,兆聲清洗,雙面PVA刷洗,去離子水沖洗等清洗模塊,對晶圓有頂級的清洗能...

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              • 標準濕法處理系統

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:CHEMIXX 30pm

                CHEMIXX 30pm濕法臺是一款半自動單面濕法系統,主要用于晶圓或者方片的清洗,刻蝕,顯影等應用,其中清洗部分具有化學清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,高壓DI水沖洗,背部清洗等多種功能。...

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              • 12寸晶圓顯影機

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:UNIXX DB20/30

                UNIXX DB30 型晶圓顯影機是一款針對12寸及以下尺寸晶圓的半自動系統,系統可集成顯影,清洗,干燥等模塊,同時可用于方片顯影,最大尺寸230mm*230mm。...

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              • 8寸晶圓顯影機

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:UNIXX D20

                UNIXX DB20 型晶圓顯影機是一款針對8寸及以下尺寸晶圓的半自動系統,系統可集成顯影,清洗,干燥等模塊,同時可用于方片顯影,最大尺寸150mm*150mm。...

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              • 手動晶圓烘焙熱板系統

                1. 生產廠家:德國Osiris
                2. 產品型號:UNIXX HTp20

                UNIXX HTp20型熱板是一款手動桌面型烘焙系統,采用手動PID控制器和定時器開關可確保高的溫度控制精度。用于晶圓的單面烘烤,可用于預烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠涂覆...

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